中芯國(guó)際創(chuàng)始人張汝京對(duì)我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)曾有過這樣的點(diǎn)評(píng),“我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展最薄弱的環(huán)節(jié)就是材料和設(shè)備,但這也意味著市場(chǎng)機(jī)遇。”經(jīng)過長(zhǎng)期發(fā)展,我國(guó)企業(yè)在半導(dǎo)體應(yīng)用、封裝測(cè)試領(lǐng)域已發(fā)展到全球領(lǐng)先,擁有了完整的終端產(chǎn)業(yè)鏈,但在產(chǎn)業(yè)鏈前端環(huán)節(jié)非常薄弱。
半導(dǎo)體設(shè)備是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)最為重要的一環(huán),是生產(chǎn)部門不可或缺的生產(chǎn)資料。從半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中可以看出,無論是上游設(shè)計(jì)制造,還是下游封裝測(cè)試,幾乎每一個(gè)產(chǎn)業(yè)環(huán)節(jié)都需要相關(guān)設(shè)備的投入。半導(dǎo)體設(shè)備主要應(yīng)用于IC制造(前端設(shè)備)、IC封測(cè)(后道設(shè)備)兩大領(lǐng)域。
其中,IC制造設(shè)備又包括晶圓制造設(shè)備和晶圓加工設(shè)備。其中晶圓制造設(shè)備主要由硅片廠(如SUMCO、金瑞泓、上海新昇)進(jìn)行采購(gòu),最終產(chǎn)品為硅片;晶圓加工設(shè)備主要由代工廠(Foundry,如臺(tái)積電、中芯國(guó)際、上海長(zhǎng)虹)或IDM企業(yè)(如Intel、Samsung)進(jìn)行采購(gòu),最終產(chǎn)品為芯片;IC封測(cè)設(shè)備通常由專門的封測(cè)廠(如日月光、Amkor、長(zhǎng)電科技)進(jìn)行采購(gòu),包括揀選、測(cè)試、貼片、鍵合等多個(gè)環(huán)節(jié)。
半導(dǎo)體設(shè)備格局一覽
據(jù)Gartner統(tǒng)計(jì),全球規(guī)模以上晶圓制造設(shè)備商共計(jì)58家,其中日本的企業(yè)最多,達(dá)到 21 家,占36%,其次是歐洲13家、北美10家、韓國(guó)7家,而中國(guó)大陸僅4家,分別是上海盛美、上海中微、Mattson(亦莊國(guó)投收購(gòu))和北方華創(chuàng),占比不到7%。
從半導(dǎo)體設(shè)備需求端來看,近幾年銷售額前三大地區(qū)分別是韓國(guó)、中國(guó)臺(tái)灣和大陸。從半導(dǎo)體設(shè)備銷售額情況看,從2014 年開始,北美半導(dǎo)體設(shè)備投資逐年減少,日本基本維持穩(wěn)定,整個(gè)半導(dǎo)體制造的產(chǎn)能轉(zhuǎn)移到了韓國(guó)、中國(guó)臺(tái)灣和大陸三地。另外,從這三個(gè)地區(qū)市場(chǎng)份額占比來看,中國(guó)大陸買家買下了全球 15%的半導(dǎo)體設(shè)備,市場(chǎng)份額提升了近一倍,且一直處于穩(wěn)步上升的狀態(tài)。
圖:2017全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模(單位:十億美元)
從供給側(cè)來看,半導(dǎo)體設(shè)備是一個(gè)高度壟斷的市場(chǎng)。根據(jù)各細(xì)分設(shè)備市場(chǎng)占有率統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù),在光刻機(jī)、PVD、刻蝕機(jī)、氧化/擴(kuò)散設(shè)備上,前三家設(shè)備商的總市占率都達(dá) 90%以上,而且行業(yè)龍頭都能占據(jù)一半左右的市場(chǎng),所以,要想在半導(dǎo)體裝備市場(chǎng)中分一杯羹,就必須在細(xì)分領(lǐng)域能夠做到全球前三。
美國(guó)處于領(lǐng)先地位
來自SEMI的最新數(shù)據(jù)顯示,北美半導(dǎo)體設(shè)備制造商3月出貨金額為24.2億美元,比2月微增0.4%,年增16.7%,創(chuàng)17年來新高。這主要得益于近兩年內(nèi)存及晶圓代工投資持續(xù)帶動(dòng)。
美國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備的發(fā)展起源于二戰(zhàn)后期,由于軍用計(jì)算機(jī)的帶動(dòng),造就了最初的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè),在之后的二三十年中,美國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)穩(wěn)步發(fā)展,奠定了其半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。
來自北美的設(shè)備商主要包括:應(yīng)用材料,泰瑞達(dá)、Axcelis Technologies,KLA-Tencor,Lam Research,Kulicke & Soffa、Nanometrics,Rave,Rudolph Technologies,Ultratech,Ushio等。
雖然在所有半導(dǎo)體設(shè)備廠商和市場(chǎng)中,美國(guó)跟隨在日本和歐洲之后,處于第三的位置。但就晶圓處理設(shè)備而言,其實(shí)力非常強(qiáng)勁,在全球晶圓處理設(shè)備供應(yīng)商前5名中,美國(guó)就占據(jù)了3席,分別是排名第一的應(yīng)用材料(AMAT),市占率19%左右;第二的Lam Research,市占率13%左右;以及排名第5的KLA-Tencor,市占率6%左右。
具體而言,晶圓處理設(shè)備中,幾個(gè)主要工序的設(shè)備也都基本處于行業(yè)龍頭的高度壟斷之中。其中,在PVD領(lǐng)域,應(yīng)用材料公司占據(jù)了近 85%的市場(chǎng)份額,CVD占30%;刻蝕設(shè)備方面,Lam Research最多,市占率達(dá)53%,而KLA-Tencor在半導(dǎo)體光學(xué)檢測(cè)領(lǐng)域,全球市占居冠。在各個(gè)領(lǐng)域中,前三大巨頭的市場(chǎng)份額相加均超過70%,整個(gè)市場(chǎng)呈現(xiàn)強(qiáng)者恒強(qiáng)、高度壟斷的狀態(tài)。
應(yīng)用材料可以說是全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備公司了,產(chǎn)品橫跨CVD、 PVD、刻蝕、CMP、RTP等除光刻機(jī)外的幾乎所有半導(dǎo)體設(shè)備。應(yīng)用材料2017財(cái)年?duì)I收為145.3億美元,其中,半導(dǎo)體設(shè)備收入95.2億美元。
半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)技術(shù)壁壘非常高,隨著制程越來越先進(jìn),對(duì)半導(dǎo)體設(shè)備的性能和穩(wěn)定性提出了越來越高的要求,需要投入大量的研發(fā)資金。應(yīng)用材料公司一直保持著在研發(fā)上的高投入,其30%的員工為專業(yè)研發(fā)人員,擁有近12000 項(xiàng)專利,平均每天申請(qǐng)4個(gè)以上的新專利。正是這種持續(xù)的高研發(fā)投入,促成了應(yīng)用材料的內(nèi)部創(chuàng)新,構(gòu)成了較高的技術(shù)壁壘,使其自1992年以來一直保持著世界最大半導(dǎo)體設(shè)備公司的地位。
中國(guó)市場(chǎng)現(xiàn)狀
據(jù)Semi預(yù)測(cè),2018年中國(guó)的設(shè)備銷售增長(zhǎng)率將創(chuàng)新高,為49.3%,達(dá)到113億美元,中國(guó)大陸將緊隨韓國(guó),成為世界第二大半導(dǎo)體設(shè)備需求市場(chǎng)。
圖:中國(guó)大陸半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模(單位:十億美元)
2017~2020年,中國(guó)大陸將有26座新晶圓廠投產(chǎn),成為全球新建晶圓廠最積極的地區(qū),整個(gè)投資計(jì)劃占全球新建晶圓廠高達(dá) 42%,成為全球新建投資最大的地區(qū)。目前,中國(guó)12英寸晶圓廠共有22座,其中在建11座,規(guī)劃中1座;8英寸晶圓廠18座,其中在建5座。
在這樣大興土木的行業(yè)背景下,對(duì)半導(dǎo)體設(shè)備的需求和投資必然巨大。粗略計(jì)算,已經(jīng)公布的半導(dǎo)體產(chǎn)線投資金額將超過1000億美元。按照行業(yè)規(guī)律,在總投資中80%用于設(shè)備投資,從而可計(jì)算出設(shè)備投資額為800 億美元。
在晶圓廠設(shè)備構(gòu)成中,光刻機(jī)占比最大,占39%,其次是沉積設(shè)備,占比為 24%,刻蝕設(shè)備第三,占比為14%,材料制備占比8%,表面處理設(shè)備和安裝設(shè)備分別占比2%,其他設(shè)備占比11%。
據(jù)此,可以計(jì)算出,2017-2019年國(guó)內(nèi)集成電路光刻設(shè)備市場(chǎng)空間為312億美元,沉積設(shè)備市場(chǎng)空間為192億美元,刻蝕設(shè)備市場(chǎng)空間為112億美元,材料制備設(shè)備市場(chǎng)空間為64億美元。
我國(guó)與先進(jìn)國(guó)際水平相比存在較大差距
未來幾年,我國(guó)對(duì)半導(dǎo)體設(shè)備的需求量巨大。中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)雖然在近年內(nèi)呈現(xiàn)出了高增長(zhǎng)態(tài)勢(shì),但是畢竟發(fā)展時(shí)間有限,與美、日等國(guó)家比起來還是存在明顯差距。
2008 年之前我國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備基本全靠進(jìn)口,因此國(guó)家設(shè)立了國(guó)家科技重大專項(xiàng)——極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝科技項(xiàng)目(簡(jiǎn)稱 02專項(xiàng))研發(fā)國(guó)產(chǎn)化設(shè)備。但是,由于設(shè)備制造對(duì)技術(shù)和資金需求要求比較高,只有北方華創(chuàng)、中微半導(dǎo)體、上海微電子等少數(shù)重點(diǎn)企業(yè)能夠承擔(dān) 02專項(xiàng)研發(fā)工作,整個(gè)行業(yè)集中度相對(duì)較高。
雖然在02專項(xiàng)的支持下,我國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備實(shí)現(xiàn)了從無到有,但相比國(guó)內(nèi)龐大的市場(chǎng)規(guī)模而言,自給率不足15%。
即使在發(fā)展水平相對(duì)較高的 IC 封裝測(cè)試領(lǐng)域,我國(guó)與先進(jìn)國(guó)際水平相比仍然存在較大差距。尤其是單晶爐、氧化爐、 CVD 設(shè)備、磁控濺射鍍膜設(shè)備、 CMP 設(shè)備、光刻機(jī)、涂布/顯影設(shè)備、 ICP 等離子體刻蝕系統(tǒng)、探針臺(tái)等設(shè)備市場(chǎng)幾乎被國(guó)外企業(yè)所占據(jù)。
我國(guó)本土半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)不算少,但總體不強(qiáng),銷售額占比在國(guó)內(nèi)市場(chǎng)還不足15%,在國(guó)際市場(chǎng)幾乎為 0。究其原因,還是技術(shù)上的落后。
目前,國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備處于局部有所突破,但整體較為落后的狀態(tài)。尤其與國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備巨頭應(yīng)用材料、 ASML、LAM Research、KLA-Tencor等相比,國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備公司的實(shí)力仍然偏弱,絕大部分企業(yè)無法達(dá)到國(guó)際上已經(jīng)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的10nm工藝,部分企業(yè)突破到28nm或14nm工藝,但在使用的穩(wěn)定性上與國(guó)際巨頭差距較大,較難大批量進(jìn)入量產(chǎn)線,也較難進(jìn)入國(guó)際代工巨頭的生產(chǎn)線。
雖然我國(guó)整體上與國(guó)際領(lǐng)先水平存在一定的差距,但也不乏表現(xiàn)相對(duì)突出的設(shè)備企業(yè),如設(shè)備制造龍頭北方華創(chuàng)、在刻蝕機(jī)領(lǐng)域做出突破的中微半導(dǎo)體、封測(cè)領(lǐng)域龍頭長(zhǎng)川科技、從事高純工藝系統(tǒng)的至純科技以及國(guó)內(nèi)單晶生長(zhǎng)設(shè)備稀缺標(biāo)的晶盛機(jī)電等。